【日本籍】ナノ粒子開発エキスパート（CMPスラリー用研磨材）
Negotiable
【募集背景】
半導体の微細化・高性能化に伴い、CMP（Chemical Mechanical Planarization）材料のさらなる技術強化を目的として、新たにナノ粒子開発の専門家を募集します。
CMPスラリーの中核となる無機ナノ粒子（研磨材）の設計・開発から量産化までをリードし、次世代半導体向け材料の開発を推進していただきます。
【業務内容】
・CMPスラリー用無機ナノ粒子（研磨材）の設計・合成・評価
・酸化セリウム（CeO₂）、酸化シリカ（SiO₂）、酸化アルミナ（Al₂O₃）などのナノ粒子開発
・粒径・粒度分布・表面特性・分散性などの最適化
・ラボ開発からパイロット、量産へのスケールアップ開発
・生産プロセスの改善および量産条件の最適化
・品質不良や歩留まり低下などの原因解析（Root Cause Analysis）および改善
・次世代CMP材料の研究開発および新製品開発
規模850名（うち半分はR＆D）
