【日本籍】ナノ粒子開発エキスパート（CMPスラリー用研磨材）

【募集背景】半導体の微細化・高性能化に伴い、CMP（Chemical Mechanical Planarization）材料のさらなる技術強化を目的として、新たにナノ粒子開発の専門家を募集します。 CMPスラリーの中核となる無機ナノ粒子（研磨材）の設計・開発から量産化までをリードし、次世代半導体向け材料の開発を推進していただきます。【業務内容】・CMPスラリー用無機ナノ粒子（研磨材）の設計・合成・評価・酸化セリウム（CeO₂）、酸化シリカ（SiO₂）、酸化アルミナ（Al₂O₃）などのナノ粒子開発・粒径・粒度分布・表面特性・分散性などの最適化・ラボ開発からパイロット、量産へのスケールアップ開発・生産プロセスの改善および量産条件の最適化・品質不良や歩留まり低下などの原因解析（Root Cause Analysis）および改善・次世代CMP材料の研究開発および新製品開発規模850名（うち半分はR＆D）

◆必須条件・材料工学、化学、無機化学、ナノ材料などの博士号取得者（実務経験が豊富な方は修士・学士も相談可能）・半導体CMP材料またはCMPスラリーに関する研究開発経験5年以上・無機ナノ粒子の合成・開発経験・以下いずれかの材料の開発経験　　酸化セリウム（CeO₂）　　酸化シリカ（SiO₂）　　酸化アルミナ（Al₂O₃）・ラボ開発だけでなく、量産化（Scale-up）や製造プロセス改善の経験 ◆歓迎条件・CMP用研磨粒子（Abrasive）の設計・開発経験・ナノ粒子の粒径制御・分散技術・表面改質に関する知識・半導体CMPスラリーの開発経験・RCA（Root Cause Analysis）を用いた品質改善・トラブルシューティング経験・技術リーダーまたはプロジェクトリーダーとして開発を推進した経験 ◆求める人物像・論理的思考力が高く、本質的な課題を分析できる方・原因分析を通じて再発防止の仕組みづくりまで考えられる方・細部までこだわり、高品質な材料開発を追求できる方・研究開発だけでなく、量産化や製造現場との連携にも積極的に取り組める方

【日本籍】ナノ粒子開発エキスパート（CMPスラリー用研磨材）

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